Jiangsu Tetra New Material Technology Co., Ltd.
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L'applicazione della resina epossidica cicloalifatica nei sistemi di polimerizzazione UV ibridi.

Le resine epossidiche cicloalifatiche possono essere oggetto di reazioni fotopolimerizzanti cationici e loroAdesivo polimerizzabile UVHa vantaggi come restringimento a basso volume, forte adesione e buona resistenza agli agenti atmosferici. Soprattutto quando vengono utilizzati nei sistemi di fotopolimerizzazione ibridi radicali-cationici gratuiti, possono synergize con prodotti fotopolimerizzati liberi, che integrano i punti di forza e i punti deboli degli altri. Questo non solo migliora efficacemente la velocità di polimerizzazione ma consente anche l'uso con più oligatori e diluenti reattivi, lo rende ampiamente utilizzato nei rivestimenti fotopolimeri, inchiostri, adesivi elettronici, stampa 3D e altri materiali.


Al fine di fornire un migliore supporto tecnico e una migliore conoscenza dell'applicazione diResine epossidiche cicloalifaticheIn sistemi di fotopolimerizzazione ibridi radicali-cationici gratuiti, TATRA selezionato TTA-21 (3,4 epossicicloesilmetil) Come prodotto polimerizzato cationico per il confronto delle proprietà del prodotto polimerizzato con acrilati epossidici e alcuni diluenti reattivi. I fotoiniziatori cationici utilizzati erano sali di tiolo (TTA UV-692) e sali di iodio (TTA UV-694) e il fotoiniziatore radicalico gratuito utilizzato era 1-idrossicicloesil fenil chetone (184 fotoiniziatore).


Cycloaliphatic Epoxy Resinss


Le proprietà fisiche del materiale polimerizzato sono le stesse:



Cycloaliphatic Epoxy Resinss


Principali vantaggi del sistema di fotopolimerizzazione misto con resina epossidica cicloalifatica:


1. Alto tasso di conversione del gruppo epossidico in resina epossidica cicloalifatica.


I fotoiniziatori radicali liberi stimolano i fotoiniziatori cationici, aumentando il tasso di utilizzo dei fotoiniziatori cationici.



Cycloaliphatic Epoxy Resinss


Il componente dei radicali liberi fornisce idrogeno più attivo per il componente cationico, riducendo l'impatto dell'umidità sul componente cationico, riducendo così la generazione di acido protonico. Il numero di centri attivi cationici aumenta e aumenta anche la velocità di reazione e il grado.


2. Elevata resistenza alla trazione della resina epossidica cicloalifatica.

Il sistema misto contiene sia la polimerizzazione dei radicali liberi che le reazioni di polimerizzazione cationica. La reazione di polimerizzazione dei radicali liberi è veloce e può formare rapidamente una struttura rigida dello scheletro in polimero sotto la luce. La resina epossidica cicloalifatica continua a polimerizzare e crosslink su questa base della struttura dello scheletro attraverso la reazione di polimerizzazione cationica, formando una struttura secondaria. Le due strutture sono intrecciate e intrecciate tra loro, rendendo la struttura meno proof di essere danneggiata sotto le forze esterne ed espositore ad alta resistenza alla trazione.


3. Buon volume restringimento della resina epossidica cicloalifatica.

Quando i prepolimeri e i monomeri si sottopendono a polimerizzazione radicale libera, la distanza tra di loro cambia dalla distanza dei rifiuti del furgone prima di polimerizzarsi alla distanza del legame covalente dopo la polimerizzazione, con risultato di un restringimento di grandi volumi e di problemi con un grande stress interno e una scarsa adesione. Quando i composti epossidici sono soggetti a polimerizzazione ad anello cationico, la distanza tra le molecole di monomero cambia dal furgone der Waals distanza al legame covalente distanza dopo la polimerizzazione, che porta al restringimento del volume. L'altra mano, la dimensione dell'unità strutturale formata dalla polimerizzazione ad apertura ad anello cationico del monomero epossidico è più grande della molecola di monomero, con un'espansione del volume. La combinazione di questi due effetti produce un restringimento di volume più piccolo durante la solidificazione dei composti epossidici nel sistema fotopolimerizzante misto radical-cationico libero rispetto a un sistema di fotopolimerizzazione radicale autonomo.


L'applicazione della resina epossidica cicloalifatica nel sistema di fotopolimerizzazione mista fornisce più scelte e possibilità per la ricerca di polimerizzazione UV eRivestimento cationico UVTecnologia e lo sviluppo di nuovi materiali speciali conResine epossidiche speciali.